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W5全谱直读光谱分析仪

W5全谱直读光谱分析仪

 详情说明


    W5型全谱光谱分析仪为直读式光谱仪,拥有16项专利技术,是目前比较成熟的材料检测仪器,具有分析速度快、准确、检测下限低等特点,而且可以对C、P、S、N等非金属元素进行检测。该光谱仪采用光学CMOS检测器,光谱范围覆盖从低含量到高含量元素的全部典型材料,它都能准确、可靠的分析。公司拥有多年的光谱分析仪生产经验,根据用户对不同材料、不同检测环境的要求,设计了这款多功能、更具性价比的全谱直读光谱仪,可满足金属制造、加工业以及金属冶炼用于质量监控、材料牌号识别、材料研究和开发等领域。

    八大技术优势:
一、帕邢-龙格结构凹面光栅,全谱覆盖,可满足全元素的检测,直射式光学技术及MgF材质的光学器件,保证紫外区域的性能。
二、全数字化智能复合光源技术,分析性能优越,同时光源具有较好的稳定性、可靠性。高能预燃技术(HEPS)激发参数调整,充分满足不同基体、不同样品以及不同分析元素的激发要求。
三、开放式样品台,满足大尺寸样品的测试要求。变换电极对小样品及复杂几何形状样品,有较好的分析能力。视频识别技术,可监测样品台的全景,同时确保样品台激发安全。
四、智能氩气流设计及粉尘收集清理装置,有效消除激发过程中等离子体的飘移,确保CCD检测器能够观测高温区域光信号,提高精度和稳定性。
五、真空系统完全程控,在保证真空度的同时减少真空泵的运行时间,多级真空隔离措施并增加滤油装置,保障光学元器件在可靠的环境中工作。
六、使用不锈钢真空球阀,在清理透镜时有良好的隔离效果。单板式透镜设计,拆装方便,交叉机械装置,在未解除隔离的情况有效保护光学系统。
七、计算机可与手机(或PAD)同步显示,方便面板操作,高分辩率CMOS读出系统及FPGA、DSP和ARM技术,进行数据采集。数据可远程传输,实时方便对仪器运行状态的监测和控制,也可进行云打印。
八、专用的光谱分析软件,操作界面人性化,功能标准化。仪器在软件中配备多条工厂校正曲线及更多材质分析方法和先进的解决方案。根据用户的材料要求,可现场延长标准曲线的测量上、下限。


W5全谱直读光谱分析仪​参数:

项目

指标

检测基体

铁基、铜基、铝基、镍基、钴基、镁基、钛基、锌基、铅基、锡基、银基、锰基、铬基等13个基体

光学系统

帕型-龙格 罗兰圆全谱真空型光学系统

波长范围

165~580nm(可安装上下限检测器扩大波长范围)

光栅焦距

400mm

探测器

高分辩率多CMOS图像传感器

光源类型

DDD数字激发光源,高能预燃技术(HEPS

放电频率

100-1000Hz

放电电流

400A

检测时间

依据样品类型而定,一般在25s左右

电极类型

钨材喷射电极

分析间隙

样品台分析间隙:3.4mm

真空系统

真空软件自动控制、监测

光室恒温

34℃,温度自动监测

氩气纯度

99.999%

氩气压力

0.5MPa

工作电源

AC220V 50/60Hz 

仪器尺寸

860*680*438mm

仪器重量

100kg



全谱直读光谱分析仪